電子ビームマスク描画装置の光学設計（メンバー）＜A-13-2＞

職種

光学設計

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

400万～800万円

仕事内容

次世代マルチビーム描画装置の要求仕様達成に向けた光学シュミレーション、設計、検討、の実施。また、光学系における課題抽出とその課題解決のための検討業務をお任せいたします。
マルチビーム調整手法を光学設計の観点から検討する業務となります。
広い視野で業務を行う必要があり、今までの経験を生かして、
新規光学設計でのご活躍を期待しております。

【採用背景】
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で
主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる高性能化に向け、詳細な光学設計検討が必要となります。
描画装置の心臓ともいえる光学設計者層を厚くする目的の人材募集です。

【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。

【働き方】
柔軟に働けるフレックスタイム制、リモートワーク可（平均週2日程度）。
休暇制度も整っており、完全週休2日制（土・日・祝）で年間休日は125日以上。

【職場の魅力】
電子ビームマスク描画装置は、半導体の回路パターンを転写する原版となるフォトマスクを製造する設備です。フォトマスクは、製品数の増加による需要増などにより、今後も拡大が期待されています。また、7nm以下の微細プロセスの半導体の製造に必要なマスクは大幅に需要が伸びることから、マルチビームのマスク描画装置の需要も大きく拡大する見込になっています。次世代装置としては、より高い描画精度が求められる為、高機能な光学設計を組み込むことが、次世代装置開発に求められる課題となります。その為、難易度の高い課題にチャレンジする機会が多くあります。課題解決への道筋がつけられない際は、経験豊富なベテラン光学設計者からのアドバイスも得られ、自らの光学設計者としての成長が期待できる職場です。

１）職務内容の変更可能性
⇒有
２）職務内容変更の範囲
⇒会社の定める業務
３）勤務地の変更可能性
⇒有
４）勤務地変更の範囲
⇒海外現地法人を含む、当社各拠点

応募条件

【必須】
・大学生レベルの力学、電磁気学、数学の知見を用いた研究経験や、業務経験をお持ちの方（大学や大学院での経験でも可）
└電子の動き、電子間の力学、オームの法則、磁場変動などに理解があり、日常生活に転換できるレベルの知識をお持ちの方
【歓迎】
・電子顕微鏡、半導体製造装置等の、荷電粒子ビームの軌道計算や光学設計などに従事した経験のある方
・荷電粒子ビーム光学シミュレーター、電界や磁界のシミュレーターなどの利用経験のある方。
・電子顕微鏡等を手動で調整した経験のある方
・技術文書、論文などの英語（主に読解）に抵抗が少ない方

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人