HC　次世代装置開発リーダー（電子ビームマスク描画装置）【23_A-12】

職種

製品開発／研究開発(機械)

勤務地

神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番1

年収

550万～1,100万円

仕事内容

〇電子ビームマスク描画装置における次世代装置のシステム開発、要素開発業務などをご経験に合わせてお任せします。
上流工程の研究開発、設計から事業化（製品化）に至る顧客対応まで、次世代装置の開発リーダーとして幅広く活躍いただきます。
海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため、業務の中では英語を用いてコミュニケーションをとっていただくシーンがございます。
具体的には、
・次世代描画装置のシステム・要素開発
└次世代描画装置のリリースに向け、お客様との折衝やマーケット調査を通し、装置の企画・検討を行いながら技術ロードマップを作成いただきます。
└他部署と協業しながら装置リリースに向けた企画業務となります。
・現行の描画装置におけるシステム・要素開発
└各グループの仕様に基づいた開発進捗の管理や、
開発されたシステムがその仕様に対して適しているか評価・検討を行います。
※これまでの経験・スキルの範囲を活かして上記業務に携わっていただきます。
【ミッション】
描画装置の技術ロードマップを作成すべく、中長期間を視野にどういったコンセプトの描画装置をリリースするか検討いたします。
発展が著しい半導体に関連する装置を扱っているため、
自動運転やスマートフォンなどの技術革新に密接に関わっていることから、未だ世にない世界で初めての技術の根幹に携わることができるといったやりがいを感じることができます。
【採用背景】
半導体の微細化の進展により、回路パターンを転写する原版となるフォトマスクの需要が拡大する中で
主力製品である電子ビームマスク描画装置の需要が拡大しています。
従来のシングルビーム描画装置に加え、微細化に対応したマルチビーム描画装置の更なる進展を進め、
独自技術を次々に適用することによって需要にこたえていく必要があります。
こうした顧客ニーズに対応する為、生産性の高い製品を開発投入していくことが必要です。
【組織構成】
・12名（電子光学設計担当、システム開発担当、プロセス管理担当など）
基本的にチームや他部門と協業しながら業務を行っていただきます。
※半導体業界未経験の社員も在籍しております。
【充実の研修・育成制度】
OJTによる丁寧な実務フォローをはじめ、学びの場を多数ご用意しています。
各種研修や部門の中で勉強会も開催。
半導体製造装置や環境、品質などテーマは多岐にわたります。
1on1による業務支援（月1回、30分程度）もございます。

応募条件

【必須】
・精密機器装置の製造プロセスに関する知見をお持ちの方（半導体以外の装置開発経験者も歓迎）
・英語を用いてお客様と円滑に技術的な会話をすることができる方
※海外のお客様とのやり取りが多く、学会なども国際学会がほとんどであるため
【歓迎】
・研究機関や装置メーカーにおける研究職のバックグランドがある方
・メーカーにおいてマーケットの方向性や顧客志向を踏まえた次世代開発に従事した経験がある方

休日休暇

完全週休二日制（土日）、祝日、年次有給休暇（初年度　入社時1～19日（入社月による）※最大24日　繰り越し含め最大48日）、夏季休暇、特別休暇、育児・介護休暇制度

年間休日数

125日

就業時間

08:45～17:30

企業概要

＜＜最先端半導体製造装置の設計、開発、製造、販売、保守サービス＞＞　★半導体の未来をリードし続けます
◆電子ビームマスク描画装置：5nm先端マスク量産対応の電子ビームマスク描画装置
◆マスク検査装置：最先端デバイスhp20nm以降世代の扉を開く技術を結集した最先端マスク検査装置
◆エピタキシャル成長装置：数μmから150μｍ以上の膜厚まで高速で連続成膜が出来る高効率・省エネ型の画期的なエピタキシャル成長装置（パワー半導体の製造工程に使用されます）
【特長】 半導体デバイスの微細化技術をリードする最先端の電子ビームマスク描画装置(EBM)を設計、開発を中心とした半導体製造装置メーカーです。
【就業環境】 平均残業時間25h/月、有給休暇の平均取得日数17.6日とワークライフバランスが充実しており、離職率も低く、長期的に就業できる環境が魅力です。平均年収：832万円

従業員数

799人